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天津大學(xué)半導(dǎo)體石墨烯研究獲突破
文章來源：中化新網(wǎng) 更新時(shí)間：2024-01-11 15:06:10
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中化新網(wǎng)訊 天津大學(xué)天津納米顆粒與納米系統(tǒng)國(guó)際研究中心馬雷教授及其研究團(tuán)隊(duì)在半導(dǎo)體石墨烯領(lǐng)域取得了突破性進(jìn)展。該團(tuán)隊(duì)攻克了長(zhǎng)期以來阻礙石墨烯電子學(xué)發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)難題，打開了石墨烯帶隙，實(shí)現(xiàn)了“從0到1”的突破。這一突破被認(rèn)為是開啟石墨烯芯片制造領(lǐng)域大門的重要里程碑。該項(xiàng)成果已于1月3日在《自然》雜志在線發(fā)布。
作為首個(gè)被發(fā)現(xiàn)可在室溫下穩(wěn)定存在的二維材料，石墨烯獨(dú)特的狄拉克錐能帶結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致了零帶隙的特性。而零帶隙特性正是困擾石墨烯研究者數(shù)十年的難題。如何打開帶隙，成為開啟石墨烯電子學(xué)大門的“關(guān)鍵鑰匙”。 馬雷研究團(tuán)隊(duì)通過對(duì)外延石墨烯生長(zhǎng)過程的精確調(diào)控，成功地在石墨烯中引入了帶隙，創(chuàng)造了一種新型穩(wěn)定的半導(dǎo)體石墨烯。這項(xiàng)前沿科技通過對(duì)生長(zhǎng)環(huán)境的溫度、時(shí)間及氣體流量進(jìn)行嚴(yán)格控制，確保了碳原子在碳化硅襯底上能形成高度有序的結(jié)構(gòu)。這種半導(dǎo)體石墨烯的電子遷移率遠(yuǎn)超硅材料，表現(xiàn)出了十倍于硅的性能，并且擁有硅材料所不具備的獨(dú)特性質(zhì)。 該項(xiàng)研究實(shí)現(xiàn)了三方面技術(shù)革新。第一，采用創(chuàng)新的準(zhǔn)平衡退火方法，該方法制備的超大單層單晶疇半導(dǎo)體外延石墨烯，具有生長(zhǎng)面積大、均勻性高、工藝流程簡(jiǎn)單、成本低廉等優(yōu)勢(shì)，彌補(bǔ)了傳統(tǒng)生產(chǎn)工藝的不足。第二，該方法制備的半導(dǎo)體石墨烯擁有約600meV帶隙以及高達(dá)5500cm²/(V·s)的室溫霍爾遷移率，優(yōu)于目前所有二維晶體至少一個(gè)數(shù)量級(jí)。第三，以該半導(dǎo)體外延石墨烯制備的場(chǎng)效應(yīng)晶體管開關(guān)比高達(dá)104，基本滿足了現(xiàn)在的工業(yè)化應(yīng)用需求。 在此項(xiàng)研究中，具有帶隙的半導(dǎo)體石墨烯為高性能電子器件帶來了全新的材料選擇。這種半導(dǎo)體材料的發(fā)展不僅為超越傳統(tǒng)硅基技術(shù)的高性能電子器件開辟了新道路，還為整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)注入了新動(dòng)力。業(yè)內(nèi)專家表示，隨著摩爾定律所預(yù)測(cè)的極限日益臨近，半導(dǎo)體石墨烯的出現(xiàn)恰逢其時(shí)，預(yù)示著電子學(xué)領(lǐng)域即將迎來一場(chǎng)根本性變革，其突破性的屬性滿足了對(duì)更高計(jì)算速度和微型化集成電子器件不斷增長(zhǎng)的需求。
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